Thời gian tán xạ của điện tử trong giếng lượng tử GaAs/InGaAs/GaAs ở nhiệt độ hữu hạn có xét đến hiệu ứng tương quan trao đổi
Chúng tôi khảo sát tỉ số thời gian tán xạ vận chuyển tt và thời gian hồi phục đơn hạt ts của
khí điện tử tựa hai chiều (Q2DEG) trong giếng lượng tử ghép mạng không đối xứng hữu hạn
GaAs/InGaAs/GaAs ở nhiệt độ bất kỳ có xét đến hiệu ứng tương quan – trao đổi thông qua hiệu
chỉnh trường cục bộ LFC với gần đúng G = 0, gần đúng Hubbard GH , và gần đúng tự hợp STLS
GGA. Chúng tôi xem xét các tán xạ bề mặt nhám, áp điện nhám-cộng hưởng, tạp chất tích điện
xa và tạp chất tích điện nền đồng nhất theo mật độ điện tử và theo bề rộng giếng. Trong trường
hợp nhiệt độ bằng không và hiệu chỉnh trường cục bộ Hubbard GH , kết quả chúng tôi phù hợp
với kết quả của một số tính toán khác. Tại mật độ hạt tải thấp, hiệu chỉnh tương quan – trao đổi
ảnh hưởng đáng kể lên tỉ sổ thời gian vận chuyển và thời gian hồi phục đơn hạt. Trong khi ở mật
độ cao hiệu ứng hệ nhiều hạt do hiệu chỉnh tương quan – trao đổi ảnh hưởng không đáng kể lên
tỉ số thời gian tán xạ vận chuyển và thời gian hồi phục đơn hạt. Với miền mật độ và nhiệt độ khảo
sát T = 0,3TF , nhiệt độ ảnh hưởng không đáng kể lên tỉ số thời gian tán xạ vận chuyển và thời gian
hồi phục đơn hạt cho cả bốn cơ chế tán xạ. Bên cạnh đó, với sự thay đổi của bề rộng giếng, ảnh
hưởng của LFC và nhiệt độ lên tỉ số tt= ts là không đáng kể cho tán xạ áp điện nhám-cộng hưởng,
tạp chất tích điện xa và đáng kể cho tán xạ bề mặt nhám, tạp chất chất tích điện nền đồng nhất.
Trang 1
Trang 2
Trang 3
Trang 4
Trang 5
Trang 6
Trang 7
Trang 8
Tóm tắt nội dung tài liệu: Thời gian tán xạ của điện tử trong giếng lượng tử GaAs/InGaAs/GaAs ở nhiệt độ hữu hạn có xét đến hiệu ứng tương quan trao đổi
ưng chuyển động của chúng theo phương z bị giới hạn. Khi kích thước của vật rắn giảm xuống vào cỡ nanomet thì hạt tải điện tự do trong cấu trúc này sẽ thể hiện tính chất giống như một hạt chuyển động trong giếng thế V(z). Tại nhiệt độ Trích dẫn bài báo này: Tuấn T V, Khánh N Q, Tài V V. Thời gian tán xạ của điện tử trong giếng lượng tử GaAs/InGaAs/GaAs ở nhiệt độ hữu hạn có xét đến hiệu ứng tương quan trao đổi. Sci. Tech. Dev. J. - Nat. Sci.; 3(3):180-187. 180 Lịch sử Ngày nhận: 10-12-2018 Ngày chấp nhận: 04-7-2019 Ngày đăng: 30-9-2019 DOI : 10.32508/stdjns.v3i3.638 Bản quyền © ĐHQG Tp.HCM. Đây là bài báo công bố mở được phát hành theo các điều khoản của the Creative Commons Attribution 4.0 International license. Tạp chí Phát triển Khoa học và Công nghệ – Khoa học Tự nhiên, 3(3):180- 187 thấp, chúng tôi giả sử rằng electron chỉ chiếm dải con thấp nhất. Giếng lượng tử chúng tôi xét ở đây là giếng GaAs/InGaAs/GaAs với độ sâu hữu hạn, hàm sóng có dạng như sau1: Y(z) = C s 2 L 8>>>>>>>>>>>>>>>>>: cos 1 2 kL exp(kz); z< 0 cos k z 1 2 L ; 0 z L cos 1 2 kL exp[ k(z L)]; z> L (1) với C là hằng số chuẩn hóa được xác định từ hệ thức 1 : C2 1+ sina a + 1+ cosa b = 1 (2) Thời gian tán xạ vận chuyển tt (Ek) là khoảng thời gian trung bình giữa hai lần tán xạ liên tiếp khi hạt di chuyển định hướng dưới tác dụng của điện trường và có dạng2,3: 1 tt = 1 (2p)2h¯Er Z 2kr 0 dq Z 2p 0 dj q2 4k2r q2 1=2 jU(q)j2 e2(q) (3) Thời gian hồi phục đơn hạt ts(Ek) (hay thời gian sống lượng tử) là thời gian tồn tại của một trạng thái của hạt tải và không có khái niệm tương tự trong vật lý cổ điển. Thời gian hồi phục đơn hạt được xác định bởi biểu thức 4: 1 ts = 1 2p}EF Z 2kF 0 dq 2k2F 4k2F q2 1=2 jU(q)j2 e2(q) (4) Ở đây : e(q) = 1+ 2pe2 eL 1 q FC(q)[1 G(q)]P(q;T ) (5) trong đó p(q;T ) là hàm phân cực tĩnh ở T 6= 0, P(q;T ) = b 4 Z ¥ 0 dm 0 P (q;m 0) cosh2 b 2 m m 0 (6) với p(q)là hàm phân cực ở T = 0(trong gần đúng RPA)). P(q;EF )=P(q)= gvm 2p h¯2 241 vuut1 2kr q !2 Q(q 2kF) 35 (7) Thừa số dạng FC (q) phụ thuộc vào tương tác giữa hai điện tử dọc theo phương z và được xác định qua biểu thức: Fc(q) = 1 C4 Z +¥ ¥ dz Z +¥ ¥ dz0jx (z)j2 x z02 e qjz zj (8) với b = (kBT ) 1 ; E = h¯2k2=(2m) ; eLlà hằng số điện môi, kF = (4pn=gv)1=2 ; Ef = h¯2k2F=(2m), m = ln [ 1+ exp(bEF)]=b . G(q)là hiệu chính trường cục bộ (LFC) mô tả hiệu ứng tương quan trao đổi 5 và jU(q)j2là thế ngẫu nhiên phụ thuộc vào cơ chế tán xạ 6 . 181 Tạp chí Phát triển Khoa học và Công nghệ – Khoa học Tự nhiên, 3(3):180- 187 Đối với tán xạ tạp chất tích điện xa RI, thế tán xạ có dạng7: D jURI(q)j2 E = NRI 2pe2Z eL 1 q 2 FRI (q;zi) 2 (9) với NRI là mật độ tạp chất 2D, zi là khoảng cách của lớp tạp chất tính từ cạnh giếng tại z = 0, t = qL, a = kL, b = kL và FN = R+¥ ¥ jY(z)j2e qjz zj, dz là thừa số tương tác electron-tạp chất. Đối với tán xạ tạp chất tích điện nền đồng nhất BI, thế tán xạ được cho bởi 7: hjUBI(q)j2i = 2pe2Z eL 1 q 2 R+¥ ¥ dziNi (zi) [FRI (q;zi)] 2 = 2pe2Z eL 1 q 2 FBI(q) (10) với FBI(q) = NB1FB1(q) + NB2FB2(q) + NB3FB3(q) trong đó: FB1(q) = R 0 ¥ h FRI (q;zi < 0] 2 dzi FB2(q) = R L 0 h FRI (q;0 zi L]2 dzi FB3(q) = R+¥ L h FRI (q;zi > L] 2 dzi (11) Đối với tán xạ bề mặt nhám SR, thế tán xạ được cho bởi 1: D jUse(q)j2 E = p1=2h¯2C2a2DL mzL3 !2 exp q2L2=4 (12) với D và L, tương ứng, là biên độ nhám và độ dài tương quan. Trong trường hợp tán xạ áp điện nhám-cộng hưởng PESR, thế tán xạ được cho bởi 1: hjUPESR(q)j2i = 0B@3p3=2ee14GAe==C2a2DL 8eLc44 1CA 2 F2PE (t) exp( q2L2=4)sin2 2q (13) KẾT QUẢ VÀ THẢO LUẬN Để thực hiện tính toán số chúng tôi sử dụng các tham số sau: mz =m = 0,058 m0 vớim0 là khối lượng electron tự do, chiều cao rào thế V0 = 131 meV. Chúng tôi tính số tỉ số thời gian tán xạ vận chuyển và thời gian hồi phục đơn hạt tt= ts ở nhiệt độ bằng không và hữu hạn có xét đến hiệu ứng tương quan trao đổi trong ba gần đúng: RPA với G = 0, Hubbard với GH(q) = 1gs;gv qp q2+k2F trong đó gs, gv là độ suy biến spin và 182 Tạp chí Phát triển Khoa học và Công nghệ – Khoa học Tự nhiên, 3(3):180- 187 độ suy biến valley, và STLS với GGA(q) = r4=3s 1;402qq 2:644C221q 2 s +C222r 4=3 s q2 C23r2=3s qs;q (14) Hình 1 biểu diễn tỉ số thời gian tán xạ vận chuyển và thời gian hồi phục đơn hạt tt=ts cho tán xạ bề mặt nhám: (a) theo mật độ với L = 100 0 A, và (b) theo bề rộng giếng với n= 1012cm 2ứng với những gần đúng khác nhau cho LFC ở nhiệt độ bằng không và hữu hạn. Quan sát thấy rằng: • Theo mật độ: sự phụ thuộc của tỉ số tt=ts vào LFC ở mật độ cao là rất yếu. Ở mật độ thấp, ảnh hưởng của LFC lên tt=ts là đáng kể và tỉ số tt=ts nhỏ hơn 1. Và cũng thấy tt=ts luôn tăng theo mật độ. • Theo bề rộng giếng : tỉ số tt=ts là khác nhau đối với bề rộng giếng khác nhau và luôn lớn hơn 1. tt=ts đạt giá trị thấp nhất đối với G = 0, và sự khác biệt của tt=ts trong hai gần đúng GH và GGA là nhỏ. • Ảnh hưởng của nhiệt độ : nhiệt độ ảnh hưởng đáng kể lên tỉ số tt=ts đối với mọi giá trị khảo sát của bề rộng giếng (Hình 1b), và tỉ số tt=ts theo nhiệt độ T = 0 luôn lớn hơn theo nhiệt độ T khác không. Tuy nhiên, nhiệt độ ảnh hưởng không đáng kể ở vùng mật độ khảo sát (Hình 1a). Hình 1: Tỉ số thời gian tán xạ vận chuyển và thời gian hồi phục đơn hạt tt/ts cho tán xạ bề mặt nhám (SR) vớiD= 5 0 A; A= 50 0 A Chú thích: (a) theomật độ với L = 100 0 A, và (b) theo bề rộng giếng với n= 1012cm 2 ứng với các mô hình LFC khác nhau cho nhiệt độ bằng không và hữu hạn. TrongHình 2 tỉ số tt= ts cho tán xạ áp điện nhám-cộng hưởng nhám (PESR): (a) theo mật độ cho L = 100 0 A, và (b) theo bề rộng giếng cho n= 10A12 cm 2 ứng với những gần đúng khác nhau cho LFC ở nhiệt độ bằng không và khác không. Kết quả cho thấy: • Theo mật độ: ảnh hưởng của LFC là đáng kể ở mật độ thấp. Tỉ số tt=ts nhỏ hơn 1 ở mật độ thấp và tăng dần theo mật độ, đạt giá trị lớn hơn 1 khi mật độ n 5;81011 cm 2 • Theo bề rộng giếng: với bề rộng giếng L < 45 0 A, tỉ số tt /ts< 1 và tăng dần theo sự tăng của bề rộng giếng. Ảnh hưởng của LFC là không đáng kể lên tỉ số tt /ts. 183 Tạp chí Phát triển Khoa học và Công nghệ – Khoa học Tự nhiên, 3(3):180- 187 Hình 2: Tỉ số thời gian tán xạ vận chuyển và thời gian hồi phục đơn hạt t t= ts cho tán xạ áp điện nhám-cộng hưởng nhám (PESR) với D = 5 0 A;L = 50 0 A Chú thích: (a) theo mật độ; (b) theo bề rộng giếng ứng với các mô hình LFC khác nhau cho nhiệt độ bằng không và hữu hạn. Hình 3: Tỉ số thời gian tán xạ vận chuyển và thời gian hồi phục đơn hạt t t= ts cho tán xạ tạp chất tích điện nền đồng nhất (BI) vớiNB1 =NB2 =NB3 = 1017 cm 3. Chú thích: (a) theo mật độ, (b) theo bề rộng giếng ứng với các mô hình LFC khác nhau cho nhiệt độ bằng không và hữu hạn. 184 Tạp chí Phát triển Khoa học và Công nghệ – Khoa học Tự nhiên, 3(3):180- 187 • Ảnh hưởng của nhiệt độ: nhiệt độ ảnh hưởng lên tỉ số tt=ts là không đáng kể đối với mọi mật độ và nhỏ đối với các giá trị khảo sát của bề rộng giếng. Hình 3, biểu diễn tỉ số tt= ts cho tán xạ tạp chất tích điện nền đồng nhất (BI): (a) theo mật độ với L = 100 0 A, và (b) theo bề rộng giếng với n = 1012 cm 2 ứng với những gần đúng khác nhau của G = 0, G = GH và G = GGA cho nhiệt độ bằng không và khác không. Hình vẽ cho thấy rằng: • Theomật độ: có sự khác biệt lớn giữa các giá trị tt=ts cho các LFC khác nhau ở mật độ thấp nhưng sự khác biệt là không đáng kể ở mật độ hạt cao. Tỉ số tt=ts luôn lớn hơn 1 trong miền mật độ khảo sát. • Theo bề rộng giếng: khi bề rộng giếng thay đổi, ảnh hưởng của LFC lên tt=ts luôn là đáng kể và tt=ts đạt giá trị thấp nhất đối với GGA. Đối với tán xạ BI tỉ số tt=ts lớn hơn nhiều so với 1. • Ảnh hưởng của nhiệt độ: ảnh hưởng nhiệt độ là không đáng kể theo mật độ (Hình 3a). Tỉ số tt=ts theo nhiệt độ T = 0 luôn lớn hơn theo nhiệt độ T khác không ứng với bề rộng giếng được khảo sát (Hình 3 b). Hình 4 chỉ ra tỉ số tt=ts cho tán xạ tạp chất tích điện xa (RI): (a) theo mật độ cho L = 100 0 A và (b) theo bề rộng giếng cho n = 1012 cm 2 ứng với những gần đúng khác nhau cho LFC ở nhiệt độ bằng không T = 0 và khác không T = 0,3TF cho pha tạp trong giếng (zi = L/2) và pha tạp ngoài giếng (zi = -L/2). Kết quả theo mật độ, bề rộng giếng, và nhiệt độ như sau: • Theomật độ: ảnh hưởng của LFC lên tỉ số tt=ts ở mật độ cao không đáng kể cho cả hai miền pha tạp trong giếng và ngoài giếng. Tỉ số tt=ts cho pha tạp ngoài giếng luôn lớn hơn so với pha tạp trong giếng, nhất là ở mật độ cao. Đối với cả hai loại pha tạp, tỉ số tt=ts luôn tăng theo mật độ. • Theo bề rộng giếng: tỉ số tt=ts đối với pha tạp ngoài giếng lớn hơn nhiều so với pha tạp trong giếng. Ảnh hưởng của LFC ( GH và GGA ) đối với tán xạ này là không đáng kể cho các giá trị khảo sát của bề rộng giếng. • Ảnh hưởng của nhiệt độ: nhiệt độ ảnh hưởng không đáng kể lên tt=ts cho cả hai miền pha tạp ứng với miền mật độ và bề rộng giếng được khảo sát. Hình 4: Tỉ số thời gian tán xạ vận chuyển và thời gian hồi phục đơn hạt t t=ts cho tán xạ tạp chất tích điện xa (RI) vớiNRI = n pha tạp trong giếng và ngoài giếng.Chú thích: (a) theo mật độ ; (b) theo bề rộng giếng ứng với các mô hình LFC khác nhau cho nhiệt độ bằng không và hữu hạn. 185 Tạp chí Phát triển Khoa học và Công nghệ – Khoa học Tự nhiên, 3(3):180- 187 KẾT LUẬN Tỉ số thời gian tán xạ vận chuyển và thời gian hồi phục đơn hạt tt=ts của khí điện tử tựa hai chiều trong giếng lượng tử GaAs/InGaAs/GaAs được khảo sát ở nhiệt độ bằng không và nhiệt độ hữu hạn có xét đến hiệu ứng tương quan- trao đổi thông qua hiệu chỉnh trường cục bộ theo mật độ hạt tải và bề rộng giếng cho bốn cơ chế tán xạ khác nhau. Khi mật độ hạt thay đổi, nhiệt độ ảnh hưởng không đáng kể lên tỉ số tt=ts. Ở mật độ cao, tỉ số tt=ts không phụ thuộc vào LFC và tăng theo sự tăng mật độ đối với cả bốn cơ chế tán xạ. Với sự thay đổi của bề rộng giếng, ảnh hưởng của LFC và nhiệt độ lên tỉ số tt=ts là không đáng kể cho tán xạ PESR và RI. Tỉ số tt=ts đối với pha tạp ngoài giếng (zi = - L/2) luôn lớn hơn so với trường hợp pha tạp trong giếng (zi = L/2). Trong trường hợp tán xạ SR và BI, ảnh hưởng của LFC và nhiệt độ lên tỉ số tt=ts là đáng kể đối với các giá trị khảo sát của bề rộng giếng. DANHMỤC TỪ VIẾT TẮT Q2DEG: Quasi-two-dimensional electron gas (Khí điện tử tựa hai chiều) LFC: Random phase approximation (Gần đúng pha ngẫu nhiên) RPA: Local field correction (Hiệu chỉnh trường cục bộ) STLS : the self-consistent formalism of Singwi, Tosi, Land and Sjölande (Hình thức luận tự hợp STLS) RI: Remote charged impurity scattering (Tán xạ tạp chất tích điện xa) BI:Homogenous background impurity scattering (Tán xạ tạp chất tích điện nền đồng nhất) SR: Surface roughness scattering (Tán xạ bề mặt nhám) PESR : Roughness-induced piezoelectric scattering (Tán xạ áp điện nhám-cộng hưởng) XUNGĐỘT LỢI ÍCH Các tác giả xác nhận hoàn toàn không có xung đột về quyền lợi. ĐÓNGGÓP CỦA CÁC TÁC GIẢ Trương Văn Tuấn: tính toán số, giải thích và viết và gửi bài ; Võ Văn Tài: tính giải tích cơ chế tán xạ RI, BI ; Nguyễn Quốc Khánh: hiệu chỉnh các giải thích và bài viết. LỜI CẢMƠN Công trình này được tài trợ bởi Quỹ phát triển Khoa học và Công nghệ quốc gia (NAFOSTED) trong khuôn khổ đề tài 103.01-2017.23.\ TÀI LIỆU THAMKHẢO 1. Quang DN, Tuoc VN, Huan TD. Roughness-induced piezoelectric scattering in lattice-mismatched semiconductor quantum wells. Phys Rev B. 2003;68:195316. 2. S, Sarma D, Stern F. Single-particle relaxation time versus scattering time in an impure electron gas. Phys Rev B. 1985;32. 3. Hsu L, Walukiewicz W. Transport-to-quantum lifetime ratios in AlGaN/GaN heterostructures. Appl Phys Lett. 2002;80:2508–2508. 4. Coleridge PT, Stoner R, Fletcher R. Low-field transport coefficients in GaAs/Ga1xAlxAs heterostructures. Phys Rev B. 1989;39(1120). 5. The local-field correction for the interacting electron gas: many-body effects for unpolarized and polarized electrons. Z Phys B. 1997;103. 6. Electronic transport properties of a 2DEG in a silicon quantum-well structure at low temperature. Phys Rev B. 1987;35. 7. Ando T, Fowler AB, Stern F. Electronic properties of 2D systems. Rev Mod Phys. 1982;54:437–672. 186 Science & Technology Development Journal – Natural Sciences, 3(3):180-187 Open Access Full Text Article Research Article 1University of Science, VNU-HCM 2Tran Dai Nghia University Correspondence Truong Van Tuan, University of Science, VNU-HCM Tran Dai Nghia University Email: tuanbo83@gmail.com History Received: 10-12-2018 Accepted: 04-7-2019 Published: 30-9-2019 DOI : 10.32508/stdjns.v3i3.638 Copyright © VNU-HCM Press. This is an open- access article distributed under the terms of the Creative Commons Attribution 4.0 International license. The scattering time of electrons in a GaAs/InGaAs/GaAs quantum well including temperature and exchange-correlation effects Truong Van Tuan1,2,*, Nguyen Quoc Khanh1, Vo Van Tai1 Use your smartphone to scan this QR code and download this article ABSTRACT The ratio of the scattering and single-particle relaxation time of a quasi-two-dimensional electron gas (Q2DEG) in a finite lattice-mismatched GaAs/InGaAs/GaAs quantum well was investigate at zero and finite temperatures, taking into account the exchange-correlation effects via a local-field correction with three approximations for the LFC, G = 0, GH , and GGA . We studied the dependence of the surface roughness, roughness-induced piezoelectric, remote and homogenous background charged impurity scattering on the carrier density and quantum well width. In the case of zero temperature and Hubbard local-field correction our results reduced to those of different theoreti- cal calculations. At low density, the exchange-correlation effects depend strongly on the ratio t t/t . While at high density many-body effects due to exchange and correlation considerably modified the ratio of the scattering and single-particle relaxation time. We found that, for densities and tem- peratures considered T = 0,3TF in this study, the temperature affected weakly on the time ratio for four scatterings. Furthermore, with the change of quantum well width, the effect of LFC and temperatures act on the ratio t t=t are negligible for the roughness-induced piezoelectric and re- mote charged impurity scattering, and are notable for the surface roughness and homogenous background charged impurity scattering. Keywords: transport scattering time, single-particle relaxation time, exchange-correlation effects Cite this article : Van Tuan T, Quoc Khanh N, Van Tai V. The scattering time of electrons in a GaAs/InGaAs/GaAs quantum well including temperature and exchange-correlation effects. Sci. Tech. Dev. J. - Nat. Sci.; 3(3):180-187. 187
File đính kèm:
- thoi_gian_tan_xa_cua_dien_tu_trong_gieng_luong_tu_gaasingaas.pdf